El horno de oxidación y difusión es un equipo de proceso clave para la producción de células fotovoltaicas. Mezcla y difunde trazas de boro, fósforo y otros elementos en la oblea de silicio a altas temperaturas para preparar uniones PN y compone circuitos integrados a partir de ellas. También se puede utilizar para preparar películas de SiOx en la superficie de la oblea de silicio para proteger las obleas.

Es común utilizar termopares que miden tanto la parte interior como la exterior del horno para controlar la temperatura interior del horno de difusión que podría realizar el proceso de oxidación. Cada zona de temperatura especificada tiene un termopar externo e interno para garantizar que los resultados de la medición sean confiables. Los termopares internos se utilizan para medir la temperatura de la oblea; comúnmente tienen de 3 a 9 puntos de medición, que representan la temperatura de la oblea con precisión. Los termopares exteriores se utilizan para detectar la superficie exterior del tubo del horno; cada uno normalmente tiene solo un par de cables, para dar una medición indirecta del horno. Por lo general, la temperatura del proceso de oxidación es más baja que la del proceso de difusión, por lo tanto, se podría implementar un termopar bf multipunto principal tipo K y N.

 

 

 

 

 

 

 

 

Soldadura Manual

Soldadura Automática

Pruebas de aislamiento

Marcado láser

Gestión de almacén

Montaje de termopar

Detección de fugas de vacío

Pulido de superficies

 

 

http://es.duchinsensors.com/